전계 방출 전자 현미경(Field Emission Scanning Electron Microscope, e-beam lithography)
Field Emission Scanning Electron Microscope, e-beam lithography
모델명/제조사 | / ZEISS |
---|---|
위 치 | 이과대학 627호 |
담당교수 | 김영덕 |
예약문의 | 02-961-0815 |
연구중심 대학
경희대학교 중앙기기센터
전계 방출 전자 현미경(Field Emission Scanning Electron Microscope, e-beam lithography)
Field Emission Scanning Electron Microscope, e-beam lithography
모델명/제조사 | / ZEISS |
---|---|
위 치 | 이과대학 627호 |
담당교수 | 김영덕 |
예약문의 | 02-961-0815 |
장비설명 |
ZEISS FE-SEM Gemini Sigma 300 for high resolution images and E-beam lithography with nanometer pattern generation system(NPGS) GeminiSEM with In-lens, SE2 Detector, EIZO 4k Monitor |
---|---|
용 도 |
1nm 이하의 초고분해능의 전자 현미경 이미지 측정
|
사용료 | 바로가기 |