- 본 장비는 뉴질랜드 Beaglehole 사에서 제작한 Nano Film Analyzer 장비입니다. 반도체 박막의 유전율 및 굴절율 함수, 박막 두께 등을 측정 분석

- 본 장비는 뉴질랜드 Beaglehole 사에서 제작한 ellipsometer 의 분광기 입니다. 반도체 박막의 유전율 및 굴절율 함수, 박막 두께 등을 측정 분석하는데 필수적인 단파장 광원을 제공

- 본 장비는 뉴질랜드 Beaglehole 사에서 제작한 분광기 카메라 임

- 반도체 시료의 공간적인 2차원 구조를 사진처럼 촬영하는데 사용되며, 2차원 유전율, 굴절율 및 두께 값을 측정 분석하는데 사용되는 광 검출기 임

- He-Ne laser 광원, 편광판, 시료홀더, compensator, analyzer, 광 검출기로 구성되어 있음

- 632.8 nm 단파장에서의 유전율 함수와 두께를 pm 정확도까지 측정하고 분석

- 본 장비는 ISE 시스템의 분광기로서 에너지 영역 400 – 800 nm 영역의 텅스텐 할로겐 광원을 단파장으로 분광하는 역할을 함

- 측정 영역 400 - 800 nm, 2-dimentional array detector, 최고 해상도 약 1.7 um.